【解決手段】酸不安定基によりカルボキシル基が保護された構造を有する繰り返し単位（ａ１）とアミノ基、アミド結合、カルバメート結合、含窒素複素環から選ばれる構造を１つ以上含む繰り返し単位（ａ２）とを含有する高分子化合物［Ａ］と、光酸発生剤［Ｂ］と、有機溶剤［Ｃ］とを共に含むレジスト組成物を基板に塗布し、塗布後加熱処理をして作製したレジスト膜を高エネルギー線で露光し、露光後加熱処理を施した後に、有機溶剤を含有する現像液によりレジスト膜の未露光部分を選択的に溶解させるネガ型パターン形成方法。
【効果】本発明の特定の構造の高分子化合物と光酸発生剤と有機溶剤を含むレジスト組成物を有機溶剤ネガ現像と組み合わせることで表面難溶層の形成を防ぎ、微細トレンチパターンやホールパターンの広い焦点深度を得ることが可能となる。 （もっと読む）

【解決手段】（Ａ）２５℃における粘度が１０〜１００，０００ｍｍ²／ｓである疎水性オルガノポリシロキサン、
（Ｂ）微粉末シリカ、
（Ｃ）界面活性剤、及び
（Ｄ）２５℃で固体状の水可溶包括剤
を含有する粉末消泡剤であって、
前記成分（Ａ）と成分（Ｂ）とを混合してなるシリコーンオイルコンパウンドと前記成分（Ｄ）を前記成分（Ｃ）の存在下に水に分散させた分散液を噴霧乾燥することによって得られ、前記シリコーンオイルコンパウンドを前記成分（Ｄ）を外殻として包括してなることを特徴とする粉末消泡剤。
【効果】本発明の粉末消泡剤によれば、スプレードライヤー法で製造されることにより水を含まない状態となっているため、エマルション型の消泡剤のような分離や腐敗といった問題がなく、保存安定性に著しく優れている。 （もっと読む）

【解決手段】（Ａ）非共役ポリエンが、少なくとも１種の末端ビニル基含有ノルボルネン化合物よりなり、かつ剪断速度１０ｓ^-1の時の２３℃での粘度が１０Ｐａ・ｓ以上１，０００Ｐａ・ｓ未満であるエチレン・α−オレフィン・非共役ポリエンランダム共重合体ゴム、（Ｂ）下記式で示される２価シロキサン単位の側鎖にケイ素原子結合水素原子を一分子あたり３個有し、かつ、分子鎖末端にケイ素原子結合水素原子を有さないオルガノポリシロキサン、


（Ｃ）分子鎖末端及び側鎖に一分子中に合計で少なくとも３個のケイ素原子結合水素原子を有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン、（Ｄ）補強性フィラー、（Ｅ）硬化反応触媒、（Ｆ）硬化反応遅延剤を必須成分とする架橋可能なゴム組成物。
【効果】可使時間が長く良好な成形性を有し、高硬度で表面のべたつき（タック感）が少ないゴム物性の硬化ゴムを与える。 （もっと読む）

【課題】耐圧縮永久歪特性の優れたシリコーンゴム硬化物を与えるミラブル型シリコーンゴムコンパウンド及びシリコーンゴム組成物の製造方法を提供する。
【解決手段】(A)〜(E)を混合後、熱処理を行ってミラブル型シリコーンゴムコンパウンドを製造するに際し、(B)を必要添加量の25質量%以上添加して(A)、(C)、(D)と均一に混合、混練後、(E)及び(B)の残量を添加して均一に混合するミラブル型シリコーンゴムコンパウンドの製造方法。(A)重合度100以上のオルガノポリシロキサン、(B)補強性シリカ、(C)R²_mSi(OR³)_4-m(II)(Ｒ²はH又は一価炭化水素基、Ｒ³はアルキル基、mは0，1，2又は3)のアルコキシシラン、(D)水、(E)R⁴₃SiNHSiR⁴₃(III)(Ｒ⁴は一価炭化水素基)のヘキサオルガノジシラザン又はアンモニア水。 （もっと読む）

【課題】磁石の耐熱性およびモータ効率を改善し、さらには磁石の使用量を抑えたモータならびに前記モータを用いる圧縮機を提供する。
【解決手段】ロータ１０と、ロータ１０の径方向外側に空隙を介して配置され、巻き線を巻いた複数のスロット２２を有するステータコア２１を含むステータ２０とを備えるモータ１において、ロータ１０が、ロータコア１１と、該ロータコア１１内にロータ周方向に配列される複数のスロット１２と、複数のスロット１２のそれぞれに、ロータ径方向を厚さとする板状に形成され、ロータ周方向に分割されて配列される２つの磁石１３ａ，１３ｂと、該分割のためのスペーサとを備え、前記２つの磁石１３ａ，１３ｂを前記スペーサにより該２つの磁石を備えるスロット１２の周方向の長さＬに対して１０〜５０％の距離ｃの磁石間隙１４で互いに離間して配置する。 （もっと読む）

【課題】
高温での耐熱性に優れ、高温で長期間使用されても低弾性率及び低応力を維持することができるシリコーンゲルを与えるオルガノポリシロキサン組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】
（Ａ）（Ａ−１）両末端にケイ素原子に結合する脂肪族不飽和基を有し、分子中にシルメチレン結合を有するオルガノポリシロキサンと、（Ａ−２）片末端にケイ素原子に結合する脂肪族不飽和基を有し、分子中にシルメチレン結合を有するオルガノポリシロキサンと、（Ａ−３）両末端にケイ素原子に結合する脂肪族不飽和基を有さず、分子中にシルメチレン結合を有するオルガノポリシロキサンとの混合物 １００質量部
（Ｂ）ケイ素原子に結合する水素原子を１分子中に３個以上有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン （Ｂ）成分中に含まれるケイ素原子に結合する水素原子の数が前記（Ａ）成分中のケイ素原子に結合する脂肪族不飽和基１個当たり０．７〜３個となる量、及び
（Ｃ）触媒量のヒドロシリル化反応触媒
を含有するオルガノポリシロキサン組成物。 （もっと読む）

【課題】高温放置前後でのリカバリ特性が向上した非水電解質二次電池を提供する。
【解決手段】電池セル内部に正極と、シリコン系負極活物質を含有する負極ペーストを用いて作製された負極と、非水電解液とを有する非水電解質二次電池であって、下記一般式（１）で示されるイオン性化合物が、前記電池セル内部に含有されたものであることを特徴とする非水電解質二次電池。


（式中、Ｘ^ｍ＋は、Ｎ^＋、Ｐ^＋、若しくはＳ^＋を有する有機カチオン、アルカリ金属カチオン、又はアルカリ土類金属カチオンを表し、ｍは前記Ｘの価数であり、ｎはｎ＝ｍを満たす自然数である。） （もっと読む）

【解決手段】基板に接触され、多数の空孔を有するナップ層が、エーテル樹脂を含む少なくとも３種類の樹脂を有するベース樹脂にて形成された研磨布を用い、これに研磨スラリーを同伴させて基板表面を研磨する工程を含むことを特徴とする基板の製造方法。
【効果】本発明によれば、基板表面の欠陥数が少なく、かつ高平滑性化された基板を製造することが可能となる。また、研磨布の使用時間を延長することができることから、コストダウン及び生産性の向上につながる。 （もっと読む）

【解決手段】酸不安定基により水酸基が保護された構造を有する繰り返し単位（ａ１）とアミノ基、アミド結合、カルバメート結合、含窒素複素環から選ばれる構造を１つ以上含む繰り返し単位（ａ２）とを含有する高分子化合物［Ａ］と、光酸発生剤［Ｂ］と、有機溶剤［Ｃ］とを共に含むレジスト組成物を基板に塗布し、塗布後加熱処理をして作製したレジスト膜を高エネルギー線で露光し、露光後加熱処理を施した後に、有機溶剤を含有する現像液によりレジスト膜の未露光部分を選択的に溶解させるネガ型パターン形成方法。
【効果】本発明の特定の構造の高分子化合物と光酸発生剤と有機溶剤を含むレジスト組成物は、有機溶剤ネガ現像と組み合わせることで高い解像性を示し、例えば微細トレンチパターンやホールパターンの側壁の垂直性を高め、パターン倒れ耐性を向上させることが可能である。 （もっと読む）

【解決手段】（Ａ）分子鎖両末端が水酸基及び／又は加水分解性基で封鎖されたジオルガノポリシロキサン：１００質量部、
（Ｂ）下記（Ｂ−１）と（Ｂ−２）の混合物：０．５〜３０質量部、
（Ｂ−１）トリス（ケトキシム）シラン及び／又はその部分加水分解縮合物
（Ｂ−２）テトラキス（ケトキシム）シラン及び／又はその部分加水分解縮合物
但し、（Ｂ−１）成分と（Ｂ−２）成分の質量比は６０：４０〜９０：１０である。
（Ｃ）無機質充填剤：１〜５００質量部、
（Ｄ）接着助剤：０．０５〜２０質量部
を含有してなり、有機金属触媒を含まない室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物。
【効果】本発明によれば、有機系金属触媒なしで基材との密着強度の発現が速い縮合硬化型の室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物を得ることができる。特に生産性の向上を期待できるため、太陽電池の端子ボックスの固定用に有効である。 （もっと読む）