【課題】耐溶剤性を維持しながら、熱安定性に優れる仮接着剤組成物及びそれを使用した薄型ウエハの製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】（Ａ）非芳香族飽和炭化水素基含有オルガノポリシロキサン、
（Ｂ）酸化防止剤、
（Ｃ）有機溶剤
を含有し、前記（Ａ）成分が１００質量部、前記（Ｂ）成分が０．５〜５質量部、前記（Ｃ）成分が１０〜１０００質量部であることを特徴とする仮接着剤組成物。 （もっと読む）

【解決手段】（Ａ）一分子中に少なくとも２個の珪素原子と結合するアルケニル基を含有するオルガノポリシロキサン： １００質量部、
（Ｂ）疎水化度が３５％以上である粉砕金属珪素粉末： １〜１，０００質量部、
（Ｃ）上記（Ａ）成分を硬化しうる量の硬化剤
を含有することを特徴とする高熱伝導性シリコーンゴム組成物。
【効果】本発明によれば、架橋阻害が少なく、硬化物（ゴム弾性層）が安定なゴム硬度を有し、高熱伝導性、耐熱性、低圧縮永久歪、低硬度等の特性を有する高熱伝導性熱定着ロール又は高熱伝導性熱定着ベルト用シリコーンゴム組成物が得られ、斯かるシリコーンゴム組成物の硬化物を用いて形成された弾性層を有する高熱伝導性の熱定着ロール及び熱定着ベルトは、長期間安定した定着性が得られる定着部材となり得る。 （もっと読む）

【課題】
空気中で紫外線照射した場合であっても表面特性に優れた塗膜を形成する事ができ、また、硬化性組成物を塗工した基材を一端保管した後に紫外線照射した場合であっても、表面特性に優れた塗膜を形成する事ができる硬化方法を提供することを目的とする。
【解決手段】
本発明は、含フッ素（α置換）アクリル化合物を含む硬化性組成物を硬化する方法であり、(iv）該組成物の温度を５０℃以上としてから紫外線を照射して該組成物を硬化する工程を含む方法である。さらに本発明は、該方法が、前記工程（iv）の前に、（i）基材に該組成物を塗工する工程を含む方法、更には、前記工程（i）の後、工程（iv）の前に、（ii）該組成物を乾燥する工程、及び（iii）該組成物の温度を５０℃未満とする工程を含む方法を提供する。 （もっと読む）

【解決手段】（Ａ）下記式（１）
Ｒ¹_mＲ²_nＳｉＯ_(4-m-n)/2 （１）
（Ｒ¹は１価炭化水素基、Ｒ²はエポキシ基を含有する有機基、ｍ＞０、ｎ＞０、０＜ｍ＋ｎ≦３である。）
で示されるエポキシ変性オルガノポリシロキサンと、
（Ｂ）（メタ）アクリル酸とを、
（Ｃ）塩基を用いて反応させる下記式（２）
Ｒ¹_mＲ⁶_nＳｉＯ_(4-m-n)/2 （２）
（Ｒ¹は１価炭化水素基、Ｒ⁶は（メタ）アクリロキシ基を含む有機基、ｍ＞０、ｎ＞０、０＜ｍ＋ｎ≦３である。）
で示される（メタ）アクリル変性オルガノポリシロキサンの製造方法。
【効果】本発明によれば、安価な原料を使用しているため原材料費が大幅に削減でき、得られた（メタ）アクリル変性オルガノポリシロキサンはアクリル基の導入率が高く、放射線を照射することによって硬化させることができ、その硬化物は基材密着性に優れた剥離紙として利用可能である。 （もっと読む）

【課題】散布初期の過剰放出を制御することが可能となり、一定期間性フェロモン物質を均一な濃度で放出することができ、汎用の散布機により散布可能な水分散型性フェロモン徐放製剤を提供する。
【解決手段】シクロデキストリンの環内部に包接された昆虫の性フェロモン物質と、前記性フェロモン物質を包接しない未包接のシクロデキストリンと、水溶性高分子化合物と、水とを少なくとも含有する水分散型性フェロモン徐放製剤を提供する。また、シクロデキストリンに包接させた昆虫の性フェロモン物質の水溶媒懸濁液に、該昆虫の性フェロモン物質を包接させていない未包接のシクロデキストリンと水溶性高分子化合物を混合することを少なくとも含む水分散型性フェロモン徐放製剤の製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】特別な精製工程を必要としない新規グリセロール基含有オルガノポリシロキサン及びその製造方法を提供、さらに、経時で臭気を発生せず、べたつきのない、しっとりとした感触を与える化粧料を提供する。
【解決手段】主鎖を構成するオルガノポリシロキサンセグメントのケイ素原子の少なくとも一つに、下記一般式（１）で表されるグリセロール基含有置換基が結合してなるものであるグリセロール基含有オルガノポリシロキサン。




（上記一般式（２）中、Ｒ^ａは炭素数２〜１２の２価の炭化水素基であり、ｍ’は１〜５の整数である。） （もっと読む）

【解決手段】（Ａ）水酸基及び／又は加水分解性基が結合した珪素原子を１分子中に少なくとも２個有するジオルガノポリシロキサン：１００質量部、（Ｂ）チタン−（メタ）アクリレート−トリアルコキサイドとβ−ジケトンの錯体化合物：０．１〜３０質量部を含有する硬化性オルガノポリシロキサン組成物。
【効果】シーリング剤、接着剤、コーティング剤等として有用であり、良好な硬化性を有すると共に、硬化収縮が殆どないため、微小部品や寸法成型性が求められる用途に特に適している。 （もっと読む）

【課題】レジスト膜の環境からの影響を低減させ、ＯＯＢ光を効率よく遮断させ、レジストパターンの膜減りやパターン間のブリッジを低減させ、レジストを高感度化させるレジスト保護膜材料を提供する。
【解決手段】ウエハー３に形成したフォトレジスト膜２上にレジスト保護膜材料によりレジスト保護膜１を形成し、露光を行った後、レジスト保護膜の剥離及びフォトレジスト膜の現像を行うことで、フォトレジスト膜にパターンを形成する方法において用いるレジスト保護膜材料であって、下記一般式（１）に記載のフェノール基を含有するトルクセン化合物を含むレジスト保護膜材料。
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【解決手段】カルボキシル基の水素原子が一般式（１）で示される酸不安定基によって置換されている樹脂をベース樹脂にしているポジ型レジスト材料。


（Ｒ¹、Ｒ²は炭素数１〜８の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基、炭素数６〜１０のアリール基、又は炭素数２〜１０のアルケニル基で、酸素原子又は硫黄原子を有していてもよい。Ｒ³はフッ素原子又はトリフルオロメチル基、ｍは１〜５の整数。）
【効果】本発明のポジ型レジスト材料は、露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが大幅に高く、高解像性を有し、露光後のパターン形状とエッジラフネスが良好で、特に酸拡散速度を抑制し、優れたエッチング耐性を示す。従って、特に超ＬＳＩ製造用あるいはフォトマスクの微細パターン形成材料、ＥＵＶ露光用のパターン形成材料として好適なポジ型レジスト材料、特には化学増幅ポジ型レジスト材料を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】シリカヒドロゾル形成時に、酸触媒、及び場合により極性水溶性有機化合物を使用せず、有機珪素封止化合物でシリカヒドロゾルを封止することにより、廃棄物が少なく、効率よく、所定の構造を持つＭＱレジンを得る製造方法、及びそれにより得られるシリコーン樹脂を提供する。
【解決手段】少なくとも２つの流路を有し、各流路の断面積がそれぞれ１０ｍｍ²以下であるマイクロリアクター装置を用いたシリコーン樹脂の製造方法であって、一方の流路より水ガラス水溶液を、もう一方の流路より水と混合したときに酸を発生する有機珪素化合物と、炭化水素系溶剤及び／又は極性水溶性有機化合物との混合物をマイクロリアクター中に導入し、酸触媒を用いずに、該マイクロリアクター中で混合しながら連続的に反応を行い、シリコーン樹脂を得ることを特徴とするシリコーン樹脂の製造方法。 （もっと読む）