国際特許分類[B29C59/02]の内容
処理操作;運輸 (1,245,546) | プラスチックの加工;可塑状態の物質の加工一般 (95,705) | プラスチックの成形または接合;可塑状態の物質の成形一般;成形品の後処理,例.補修 (56,327) | 表面成形,例.エンボス;そのための装置 (2,486) | 機械的手段,例.プレス,によるもの (2,307)
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ローラーまたはエンドレスベルトを用いるもの (562)
真空ドラムを用いるもの
国際特許分類[B29C59/02]に分類される特許
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インプリント用基板選択システム、インプリント用基板選択プログラム、インプリントシステム、インプリント用基板選択方法及びインプリント方法
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樹脂部材の製造方法、転写用型及び転写装置
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ローラー式インプリントシステム
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微細構造転写装置
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計測方法、インプリント装置、及び物品の製造方法
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針状体の製造方法および針状体の転写版
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マイクロニードルデバイスの製造方法
【課題】マイクロニードルの微細突起部形状を正確に転写、成形し、離型する際、微細突起部の先端部が折損、欠損することなく、離型でき、均一かつ細く鋭く尖った微細突起部を有するマイクロニードルデバイス製造方法を提供する。
【解決手段】成形材料として環状オレフィン系樹脂であるシクロオレフィンポリマーを用い、該環状オレフィン系樹脂のガラス転移温度(Tg)以上の温度に加熱し、マイクロニードルデバイスの微細突起部形状の凹部を有する成形型部材をシクロオレフィンポリマーのガラス転移温度(Tg)以上の温度に加熱しながら、シクロオレフィンポリマーをプレス成形し、マイクロニードルデバイスを製造する。
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パターン形成方法
【課題】塗布された反転材の段差を小さくし、反転マスクプロセスにより所望のパターンを形成する。
【解決手段】本実施形態によれば、パターン形成方法は、被加工膜上の第1領域に第1パターンを形成する工程と、前記第1パターンを覆うように前記被加工膜上に感光性化合物を有する反転材膜を形成する工程と、前記反転材膜を露光及び現像し、前記被加工膜上の前記第1領域とは異なる第2領域において、前記反転材膜を第2パターンに加工する工程と、前記反転材膜を露光及び現像した後、前記第1パターンの上面が露出するように前記反転材膜をエッチバックし、前記第1領域において前記反転材膜を第3パターンに加工する工程と、前記第2パターン及び前記第3パターンをマスクとして前記被加工膜をエッチングする工程と、を備える。
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硬化性組成物及びパターン形成方法
【課題】光硬化後に短時間且つ簡便に離型することができ、離型力が小さい硬化性組成物を提供する。また、離型力が小さいパターン形成方法を提供する。
【解決手段】硬化用組成物は、重合性モノマーと重合開始剤とを有し、前記重合開始剤が前記重合性モノマーの重合を開始させ、前記重合性モノマーが重合することで硬化する硬化性組成物において、前記硬化性組成物は圧力を受けてガスを発生するガス発生剤を更に有する。
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ヘッドスキューの補償を伴うマルチトラック記録のためのパターン化磁気記録ディスクと、同ディスクをナノインプリントするためのマスタテンプレート
【課題】ヘッドスキューの補償を伴うマルチトラック記録のためのパターン化磁気記録ディスクと、同ディスクをナノインプリントするためのマスタテンプレートとを提供する。
【解決手段】本発明は、マスタテンプレートからナノインプリントすることにより作製され、ヘッドスキューを補償するためのパターンで配置されたデータアイランドを有するマルチトラック記録用パターン化メディアディスクである。アイランドは、マルチトラック記録に必要なように、ディスク半径方向線に対して鋭角だけ傾斜された線に沿って配置される。但し、この角度はすべての帯に対して同じでないが、ヘッドスキューを補償するために帯毎に変化する。傾斜された帯内の線の角度はヘッドスキューの量だけ減じられる。角度が放射状線からの一方向であるディスク内径(ID)と中径(MD)間の複数の帯と、角度が放射状線から反対方向であるディスクMDと外径(OD)間の複数の帯とが、存在する。
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