Fターム[5F004BB00]の内容
半導体のドライエッチング (64,834) | 発生室、反応室、処理室等の内部構成 (10,799)
Fターム[5F004BB00]の下位に属するFターム
電子ビーム照射 (29)
光照射 (300)
磁界構成 (362)
印加電力周波数 (2,415)
ウエハの保持 (3,280)
ウエハの冷却 (694)
ウエハの加熱 (664)
ガスの流れ方 (1,266)
内壁、試料台の材質 (1,495)
光反射板 (13)
その他 (280)
Fターム[5F004BB00]に分類される特許
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真空容器およびプラズマ処理装置
【課題】 真空容器として十分な機械的強度を維持しつつ、軽量化を図ると共に、その材料費および加工費を極力軽減できる真空容器を提供する。
【解決手段】 プラズマ処理容器100aは、角筒形状に成形された下部容器1と、この下部容器1に組み合わされる上部容器10とを有している。上部容器10は、枠体21と、この枠体21に絶縁部材23を介して連結されたシャワーヘッド25と、これら枠体21およびシャワーヘッド25の上方に配設された梁構造体27とを備え、シャワーヘッド25を構成するベース板31は大気圧の外部空間に露出している。
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