【課題】
高研磨圧を要せずに、シリコン酸化膜やポリシリコン膜に対するシリコン窒化膜の研磨速度比を十分に大きくすることができると共に、貯蔵安定性が良好な化学機械研磨用水系分散体、およびそれを用いた化学機械研磨方法を提供するものである。
【解決手段】
本発明に係る化学機械研磨用水系分散体は、（Ａ）スルホ基およびその塩からなる群から選択される少なくとも１種の官能基を有するシリカ粒子と、（Ｂ）三重結合を有する非イオン性界面活性剤とを含有し、ｐＨが、２以上７以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】製造に多くの時間を要せず、また、製造過程でマトリックス成分が酸化により劣化することが低減された、高品質な多孔質体の原材料を提供する。
【解決手段】下記式（１）で表される化合物の粒子（Ａ）と、高分子化合物（Ｂ１）および反応して前記高分子化合物（Ｂ１）を形成しうる成分（Ｂ２）から選ばれる少なくとも１種の成分（Ｂ）とを含有する粒子分散体であり、前記成分（Ｂ）１００質量部に対して、前記粒子（Ａ）を５０〜５００質量部の範囲で含有する粒子分散体。


［式（１）中、Ｒ¹〜Ｒ⁴はそれぞれ独立に水素原子または水酸基を示し、ただしＲ¹〜Ｒ⁴のうちの少なくとも２つは水酸基を示す。ｎは０〜２の整数を示す。］ （もっと読む）

【課題】イオン導電性、耐酸化性および密着性のすべてに優れる電極用バインダー材料を提供すること。
【解決手段】上記の課題は、重合体および液状媒体を含有する蓄電デバイスの電極用バインダー組成物であって、前記重合体が、該重合体の１００質量部に対してフッ素原子を有する単量体に由来する繰り返し単位の５〜５０質量部と不飽和カルボン酸に由来する繰り返し単位の１〜１０質量部とを含有し、そして前記電極用バインダー組成物を１２０℃において１時間乾燥して得られる固形物について、エチレンカーボネート（ＥＣ）およびジエチルカーボネート（ＤＥＣ）からなる混合溶媒（ＥＣ；ＤＥＣ＝１：２（体積比））を溶媒として７０℃、２４時間の条件で測定した溶媒不溶分の割合が７０質量％を超えることを特徴とするによって達成される。 （もっと読む）

【課題】導電率、耐熱性及び耐光性に優れる有機導電膜を形成可能な導電膜形成用組成物を提供する。
【解決手段】［Ａ］共役系高分子、及び［Ｂ］式（１）で表される構造単位（Ｉ）を含む共重合体を含有する有機導電膜形成用組成物である。式（１）中、Ｒ^１はメチレン基、炭素数２〜１２のアルキレン基、炭素数４〜２０の２価の脂環式基、フェニレン基又はナフチレン基である。Ｒ^２は、水酸基、カルボキシル基、スルホ基、ホスホノ基又はこれらの基の塩である。
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【課題】絶縁性及び水蒸気バリア性に優れ、かつ太陽電池素子の封止材との密着性が良好で、製造時に作業性の良好な太陽電池モジュール用積層体を提供すること。
【解決手段】太陽電池モジュール用積層体、太陽電池素子、第一の封止材層、及び表面ガラスを順次備える太陽電池モジュールに用いられる、基材樹脂フィルムと、基材樹脂フィルムの一の表面上に配設される、水添ジエン系重合体を含む封止材料からなる第二の封止材層と、を備えた太陽電池モジュール用積層体である。 （もっと読む）

【課題】耐熱性等と共に、耐溶剤性にも優れたカラーフィルタを製造することができる着色組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）下記式（１）で表されるカチオンを有する着色剤、（Ｂ）バインダー樹脂、及び（Ｃ）架橋剤を含有することを特徴とする着色組成物。
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【課題】特定の研磨パッドおよび特定の化学機械研磨用水系分散体を使用して化学機械研磨を行うことにより、従来よりも優れたパフォーマンス（高研磨速度、高平坦化、スクラッチ抑制等）を達成できる化学機械研磨方法を提供する。
【解決手段】研磨パッドを定盤に固定し、前記研磨パッドの研磨層に化学機械研磨用水系分散体を供給しながら前記研磨層に半導体基板を接触させて研磨する化学機械研磨方法において、前記化学機械研磨用水系分散体が、（Ａ）長径ａ（Ｒｍａｘ）と短径ｂ（Ｒｍｉｎ）との比率（Ｒｍａｘ／Ｒｍｉｎ）が１．１以上１．５以下であるシリカ粒子と、（Ｂ）２つ以上のカルボキシル基を有する化合物と、を含み、前記研磨層の表面粗さ（Ｒａ）が１μｍ以上１０μｍ以下の範囲にある。 （もっと読む）

【課題】密着性に優れるとともに、電気的特性にも優れる蓄電デバイスを与える蓄電デバイス用正極を提供すること。
【解決手段】上記正極は、集電体と、前記集電体の表面上に形成された活物質層と、を備えた蓄電デバイス用正極であって、前記活物質層が、少なくとも（ａ）フッ素原子を有する単量体に由来する繰り返し単位を有する重合体、（ｂ）リチウム原子含有酸化物からなる活物質、および（ｃ）エーテル化度０．６〜１．０のセルロース誘導体を含み、そして前記活物質層の空孔率が１０〜５０％であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、密集及び孤立の両トレンチパターン形成における焦点深度を共に高いレベルにすることができ、かつ断面形状が良好なレジストパターンを形成することができるフォトレジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供を目的とする。
【解決手段】本発明は、［Ａ］酸解離性基を含む構造単位（Ｉ）を有する重合体、及び
［Ｂ］酸発生剤を含有するフォトレジスト組成物であって、［Ｂ］酸発生剤が、下記式（１）で表されるカチオンと、炭素数６〜１５の脂環構造を有するアニオンとを含むことを特徴とする。下記式（１）中、Ｒ^１、Ｒ^２及びＲ^３は、それぞれ独立して、炭素数１〜２０のアルキル基又は炭素数３〜２０の１価の脂環式炭化水素基である。但し、Ｒ^１とＲ^２とが互いに結合して、これらが結合している硫黄原子と共に環構造を形成していてもよい。Ｘは、単結合又は酸素原子である。
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【課題】特定の構造を有するアクリル系共重合体、およびこの共重合体を用いることにより、放射線に対する透明性が高く、しかも感度、解像度、ドライエッチング耐性、パターン形状等のレジストとしての基本物性を有する樹脂組成物を提供する。
【解決手段】下記式で表される繰り返し単位を含むアクリル系共重合体およびこの共重合体を用いた感放射線性樹脂組成物。
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