【課題】有機溶媒類に対して溶解性に優れ、液晶配向処理剤として液晶のプレチルト角付与が可能な側鎖置換エチレンジエステル型酸二無水物酸二無水物、その製造法およびポリイミドを提供すること。
【解決手段】下記式［１］で表される酸二無水物化合物、その製造方法及びポリイミド【化１】


（式中、Ｒ¹、Ｒ^２及びＲ^３は、それぞれ独立に水素原子又は炭素数１〜２０のアルキル基を表し、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^７は、それぞれ独立に水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基または炭素数１〜２０のハロアルキル基を表し、但し、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６及びＲ^７のうち少なくとも１つは炭素数１〜２０のアルキル基及び炭素数１〜２０のハロアルキル基から選ばれる置換基を表す。） （もっと読む）

【課題】光学活性エポキシ化合物の新規な製造方法の提供。
【解決手段】一般式（１−１）等：


で表される光学活性アクアクロロ（サレン）ルテニウム（ＩＩＩ）錯体を触媒として使用して、酸化剤と分子内に二重結合を有する不飽和化合物を反応させる。 （もっと読む）

【課題】酸化第二セリウムコロイド粒子をシリカ−酸化第二スズ又はシリカ−五酸化アンチモンのシリカ系複合コロイド粒子で被覆することにより、耐光性が良好な酸化第二セリウムコロイド粒子を提供する。
【解決手段】４〜６０ｎｍの一次粒子径を有する酸化第二セリウムコロイド粒子（Ａ）を核として、その表面が１〜３ｎｍの一次粒子径を有し且つシリカ／酸化第二スズ又はシリカ／五酸化アンチモンの質量比が０．１〜１０であって、０．００１〜０．０８のＭ／（シリカ＋酸化第二スズ）又はＭ／（シリカ＋五酸化アンチモン）のモル比（但しＭはアミン化合物）でアミン化合物が結合したシリカ−酸化第二スズ又はシリカ−五酸化アンチモンのシリカ系複合コロイド粒子（Ｂ）で被覆され、前記酸化第二セリウムコロイド粒子（Ａ）と前記シリカ系複合コロイド粒子（Ｂ）との質量比が（Ａ）／（Ｂ）として１〜５０である変性酸化第二セリウムコロイド粒子（Ｃ）による。 （もっと読む）

【課題】温和な反応条件下で強塩基に弱い官能基を有する基質でもＣＯ₂補足反応によるカルボキシル化が速やかに進行する、α−ヒドロキシ酸誘導体合成の中間体であるα−ヒドロキシ酸塩の新規製造方法を提供する。
【解決手段】式（１）で表される有機スズ化合物とＣＯ₂とをＣｓＦの存在下で反応させることを特徴とする式（２）で表されるα−ヒドロキシ酸塩の製造方法。


（式中、Ｒ¹は置換若しくは非置換の炭素数６〜１４のアリール基、置換若しくは非置換の炭素数３〜９のヘテロアリール基、又は置換若しくは非置換の炭素数２〜１４のアルケニル基を表す。Ｒ²は置換若しくは非置換の炭素数１〜８のアルキル基、又は置換若しくは非置換の炭素数２〜７のアシル基を表す。Ｒ'は炭素数１〜４の直鎖状又は分岐状のアルキル基を表す。） （もっと読む）

【課題】適度な線膨張係数、適度な柔軟性を有する有用なポリイミドフィルムを形成することができるディスプレイ基板用樹脂組成物を提供する。
【解決手段】特定の構造単位からなるポリアミック酸又は特定の構造単位からなるポリイミドを含むディスプレイ基板用樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】新規な有害生物防除剤、特に殺虫剤又は殺ダニ剤の提供。
【解決手段】


一般式（１）：（式中、Ａ^１、Ａ^２及びＡ^３は炭素原子等を表し、Ｇはベンゼン環等を表し、Ｗは酸素原子等を表し、Ｘ及びＹはハロゲン原子等を表し、Ｒ^１はカルボキシメチル基等を表し、Ｒ^２は水素原子等を表し、Ｒ^３はトリフルオロメチル基等を表し、ｍは０〜５の整数を表し、ｎは０〜４の整数を表す。）で表されるイソキサゾリン置換ベンズアミド化合物、それらの塩、及びそれらを含有する有害生物防除剤。 （もっと読む）

【課題】 粘度が低く保存安定性に優れる農薬液状組成物を提供すること。
【解決手段】 農薬活性成分、ノニオン性界面活性剤および有機溶剤を含む液状組成物において、該有機溶剤がブタンジオールであることを特徴とする液状組成物。農薬活性成分としてはアミノ酸系除草剤、特にグリホサートまたはその塩が好ましい。 （もっと読む）

【課題】 水面拡散性が良好な農業用水面施用粒状組成物を提供する
【解決手段】 農薬活性成分、ガラス質微小中空体および酸を含有する農業用水面施用粒状組成物および該組成物を水溶性フィルムで包装した包装体。該組成物は、それを水溶性フィルムで包装した包装体として水田水面に施用した場合に、該包装体の保管条件に拘わらず、湛水下水田での水面拡散性が良好であり、農薬活性成分が水田全面に均一に広がるため、薬害が発生し難く、生物効果が良好である。 （もっと読む）

【課題】レジスト膜に対するドライエッチング速度の選択比が大きく、ＡｒＦエキシマレーザーのような短波長でのｋ値が低く且つｎ値が高い値を示し、レジストパターンが所望の形状に形成されるレジスト下層膜を形成するための組成物を提供することを課題とする。その組成物を製造する際及び使用する際、原料モノマーに起因する臭気が問題にならないことを要する。
【解決手段】硫黄原子を主鎖に有するポリマー及び溶剤を含むリソグラフィー用レジスト下層膜形成組成物によって、上記課題は解決される。前記ポリマーは、２つのエポキシ基を含む少なくとも１種の化合物（ジエポキシ化合物）と、硫黄原子を含む少なくとも１種のジカルボン酸との反応生成物である。 （もっと読む）

【課題】新規なエポキシ化合物から誘導された化合物を含むレジスト下層膜形成組成物の提供。
【解決手段】下記式（４）で表される化合物、架橋剤及び溶剤を含むリソグラフィー用レジスト下層膜形成組成物。
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