【課題】生産性の高いバッチ処理方式を採用しながら、比較的簡単な構成で、基板の表面の全域に亘ってめっき液がより均一に流れるようにして、膜厚や膜形状の面内均一性を高めためっき膜を形成できるようにする。
【解決手段】内部に上方に向かうめっき液の流れを形成しつつめっき液を保持するめっき槽８０と、複数枚の基板Ｗを鉛直方向に並列に保持してめっき槽８０内のめっき液に浸漬させる基板ホルダ８４と、基板ホルダ８４で保持してめっき液に浸漬させた各基板Ｗの周囲をそれぞれ囲繞して、各基板Ｗの外周部に基板表面に沿っためっき液の流れと連続するめっき液の流れを形成する複数枚のガイド板１５０，１５２を有する。 （もっと読む）

【課題】生産性の高いバッチ処理方式を採用しながら、めっき液を含む薬液の持ち出し量を低減させて洗浄工程での洗浄時間を短縮させ、しかも、めっき液循環ラインの内部等のフラッシングを容易かつ迅速に行うことができるめっき装置の提供。
【解決手段】めっき前処理を行うめっき前処理槽６０を有するめっき前処理モジュール６４と、基板表面に無電解めっきを行うめっき槽６６，７２を有するめっきモジュール７０，７６と、めっき前処理モジュール６４とめっきモジュール７０，７６の間で基板を搬送するモジュール間基板搬送装置８６を有し、めっき前処理槽は、めっき前処理液の温度調節機能を備えためっき前処理液循環ラインを有し、めっき槽は、フィルタとめっき液の温度調節機能を備えためっき液循環ラインを有し、めっき液循環ラインは、めっき液循環ライン及びめっき槽の内部をフラッシングするフラッシングライン１１４，１２２に接続されている。 （もっと読む）

【課題】基板の研磨中にノズルにより研磨パッドに気体を吹き付けて研磨パッドの表面の温度を制御することによりディッシングやエロージョン等を防止することができるとともに研磨パッド上の研磨液が飛散してノズルやノズル取付部品等に付着する量を減らすことができる研磨装置および方法を提供する。
【解決手段】研磨テーブル１上の研磨パッド２に基板を押圧して基板の被研磨面を研磨する研磨装置において、研磨パッド２に向けて気体を噴射する少なくとも１つの気体噴射ノズル２４を有し、研磨パッド２に気体を吹き付けて研磨パッド２の温度を調整するパッド温度調整機構２２と、研磨パッド２に向けて液体又は気体と液体の混合流体を噴射する少なくとも１つのノズルを有し、研磨パッド２に液体又は混合流体を吹き付けて研磨パッド上の異物を除去するアトマイザ３０とを備え、パッド温度調整機構２２とアトマイザ３０とは一体のユニットとして形成されている。 （もっと読む）

【課題】電子線を走査して試料を観察するにあたって、高い分解能を有するとともに、電子線の走査に要する時間を短くできる試料観察装置を提供する。
【解決手段】ステージに載置された試料ＳＭに電子線ＩＢを照射して、試料ＳＭからの電子線を検出することにより試料を観察する電子線検査装置に於いて、１つの電子筒体５０は、試料ＳＭに照射される複数の電子線ＩＢ及び試料ＳＭからの電子線が通る電子線路を形成する複数の電子線照射検出系により構成される。ここで、複数の電子線照射検出系を同時に用いることで、検査の高速化を実現する。 （もっと読む）

【解決課題】低コストで効率的、且つ安定的な焼却処理を可能にする放射性廃棄物、特に粉末状の活性炭に関する集合固化体の製造方法及び集合固化体を提供する。
【解決手段】原子力関連設備で使用した後の粉末状の活性炭を含む放射性廃棄物スラリーと、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸アルカリ金属塩、ポリアクリル酸アルカリ土類金属塩及びセルロース系繊維から選択される吸水材とを、該放射性廃棄物スラリーの含有水１００質量部に対して、該吸水材５質量部以下の比率で混合して、該吸水材に該放射性廃棄物の残留水分を吸水させる吸水工程と、吸水後の放射性廃棄物と吸水材との混合物に、軟化点が水の沸点以下で且つ常温で固体である石油ワックス、植物性ワックス、木蝋、白蝋から選択される粉末又は粒状の可燃性結合材を、該放射性廃棄物１００質量部に対して１００質量部〜２００質量部の範囲の比率で添加し混合する可燃性結合材添加工程と、吸水後の放射性廃棄物と吸水材と可燃性結合材との混合物を、可燃性結合材の軟化点以上の温度に維持して成形体を成形する工程と、該成形体を冷却し固体化する冷却固化工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】フットプリントや洗浄時間を増大させることなく、スクラブ洗浄部材への負荷を低減させ、研磨後の基板表面の研磨性能を向上させた洗浄を行う。
【解決手段】移動アーム４８を移動させて、基板Ｗのエッジ上方の退避位置に位置するスクラブ洗浄部材４０を基板Ｗのセンタ上方のスクラブ洗浄位置に移動させ、移動アーム４８の移動に伴って、２流体ノズル７０を該２流体ノズル７０から回転中の基板Ｗの表面に向けて流体を噴出させて該表面の２流体ジェット洗浄を行いながら移動させ、２流体ノズル７０からの流体の噴出を停止させた後、スクラブ洗浄部材４０を基板Ｗの表面に接触させてスクラブ洗浄を行う。 （もっと読む）

【課題】簡単な構成で軸受部に液分の混入（浸入）がなく、軸受動作不良による故障が発生することのない真空ポンプを提供する。
【解決手段】平行な２つの回転軸３２にそれぞれ取付けた一対のポンプロータ１１と、該一対のポンプロータを内部に収納するポンプケーシング１２とを具備するポンプ部Ｐと、回転軸３２を回転駆動するモータ部Ｍとを備え、一対のポンプロータ１１とポンプケーシング１２との間に閉じ込められた気体を移送して排気する真空ポンプにおいて、回転軸３２は、モータ部Ｍのモータステータ３０を挟んだ両側に配置した軸受３４，３５のみ、またはモータ部とポンプ部の間に配置した２つの軸受のみで回転自在に支承されており、ポンプケーシング１２のモータ側端部に吸気口１５が、反モータ部側端部に排気口１６がそれぞれ設けられて、気体がモータ部Ｍから離れる方向に移送される。 （もっと読む）

【課題】基板を保持するトップリングの外周部に設けられ基板の外周縁を保持するリテーナリングの研磨面に対する追従性を高め、所望のリテーナリング面圧を研磨面に与えることができる研磨装置を提供する。
【解決手段】研磨面を有した研磨テーブル１００と、圧力流体が供給される圧力室を有し、圧力室に圧力流体を供給することで流体圧により基板を研磨面１０１ａに押圧するトップリング本体２と、トップリング本体２の外周部に設けられるとともにトップリング本体２とは独立して上下動可能に設けられ、研磨面１０１ａを押圧するリテーナリング３とを備え、リテーナリング３を研磨面１０１ａの動きに追従させるためにリテーナリング３を傾動可能に支持する支持機構を基板の中心部の上方に位置させるようにした。 （もっと読む）

【課題】試料のチャージアップを考慮して試料表面電圧を制御することにより、精度の良い試料表面検査方法と装置を提供する。
【解決手段】電子銃１から出た一次電子をウエハＷに照射して得られる二次電子Ｂ２を、二次光学系３によって検出器４１上に写像投影する際に、一次電子の照射量に応じてウエハＷの電圧やリターディング電圧を変化させる。又、パターン検査時には、検出器４１の動作周波数に同期してステージを動かし、試料上の別のパターンに移動する際にはステージの速度を加速する。 （もっと読む）

【課題】主排気送風機翼を回転駆動するための駆動機器の動力アップが必要なく、補機故障により換気設備の主機能に影響を及ぼすことが少なく信頼性の高いトンネル用換気設備を提供すること。
【解決手段】主排気送風機１０２を備えたトンネル用換気設備であって、主排気送風機翼５を駆動する電動機２により直接駆動される冷却用ファン７を備え、電動機２を排気流路１０１内の主排気送風機翼５より上流側に設置すると共に、電動機２を電動機保護カバー６で覆い、電動機保護カバー６の主排気送風機翼５の反対側側部に外部冷却空気導入口８、主排気送風機翼５側の側部に外部冷却空気放出口９を設け、外部冷却空気導入ダクト１０を通って電動機保護カバー６内に導入された外部冷却空気を排気流路１０１内に放出する。 （もっと読む）